HB01400 - SEMI HB14 - Test Method for Determining Geometrical Parameters of Patterns on Patterned Sapphire Substrate Revision:SEMI HB14-0223 - Current SEMI D22に準じる。

SEMI D22に準じる。

a conventional pellicle film cannot be placed in front of EUVL reticles

本試験方法を用いる場合は，フィッティングの温度を23～125°C（73～257°F）の範囲で保持させなければならない。

本文書はSEMIコンピュータ統合生産（CIM）フレームワークスタンダードの技術的な基礎を築くためのガイドである。ここではオブジェクト指向とフレームワークテクノロジーを利用するコンポーネントベースのアーキテクチャについて記述してある。このテクノロジーを使うことによってコンポーネントの相互運用性および代替性，アプリケーションの拡張性および再利用の実現が容易になる。本文書ではフレームワークテクノロジーに必要なサポートを行う際の分散オブジェクト通信インフラストラクチャの役割を規定している。CIMフレームワーク仕様を別のインフラストラクチャテクノロジーへマッピングするための方法もこのテクニカルアーキテクチャで扱っている。しかし，そのマッピングは規定されるものではない。新たに出現してきているテクノロジーへのマッピングを定義するには今後も作業が必要だろう。特定のソフトウェアに関して解決する必要がある実装上の問題は本ガイドの範囲外である。

They can be added according to customers’ demands or manufacturing problems

HB01400 - SEMI HB14 - Test Method for Determining Geometrical Parameters of Patterns on Patterned Sapphire Substrate Revision:SEMI HB14-0223 - Current SEMI D22に準じる。Because there are various requirements and measurement methods for patterned sapphire substrate (PSS) in the LED industry, a standardized measurement method of PSS needs to be established so that customers and PSS suppliers can work together smoothly. It is necessary to establish a standardized measurement method of PSS so that PSS suppliers will be able to provide clear and consistent product information to customers. Provides a measurement method